Elektronenstrahlverdampfung

Vapor Deposition Header
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Lichtbogenverdampfen (CAPVD) -

Wir setzen das Lichtbogenverdampfungsverfahren ein, um eine extrem harte und dünne Filmbeschichtung, die verschleiß-, korrosions- und erosionsfest ist, auf Präzisionsteilen aufzubringen. Dieses äußerst vielseitige Verfahren ermöglicht das Aufbringen von reinen Metallen, Metallnitriden, Karbiden und Karbonitriden in einer oder mehreren Lagen, abgestuft oder als Legierungsfilm.

Wir haben Titan-Nitrid als ein- oder mehrlagige Beschichtung mit einer kontrollierten Stöchiometrie mit einer Beschichtungsstärke von bis zu 20 µm im Angebot.

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Chemische Gasphasenabscheidung -

Elektronenstrahlverdampfung (EBPVD) -

ELEKTRONENSTRAHLVERDAMPFUNG

Qualitätsbeschichtungen

Wir haben Lichtbogenverdampfungs- (CAPVD), chemische Gasphasenabscheidungs- (CVD) und Elektronenstrahlverdampfungsverfahren (EBPVD) im Angebot, um Beschichtungen aus verschiedensten Materialien und mit strukturellen Eigenschaften für Ihre kritischsten Bauteile zu erzeugen. Nachfolgend erfahren Sie mehr über die einzelnen Elektronenstrahl-Verdampfungsverfahren.

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Verfahren zur Beschichtung mit Titannitrid

PST TiN Coating Process

Wir wenden das Lichtbogenverdampfungsverfahren an, um Titannitrid als ein- oder mehrlagige Beschichtung auf Präzisionsteile aufzubringen.

Aufbringungsverfahren-

EBPVD-Beschichtungsverfahren

PST EBPVD Coating Process

Mittels unserer EBPVD-Technologie können wir leistungsstarke Wärmedämmschichten (TBC) mit feinen säulenartigen Mikrostrukturen erzeugen, die eine Querbelastung sehr gut kompensieren können.